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Manufacturers develop and produce polishing pads, CMP gallium nitride chip polishing pads.
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1,974,866 so'm
Specification model
SH-Q13-800
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About the product
Characteristic
- Material
Polyamide fiber
- Brand
CMPPAD
- Scope of application
Gallium nitride chip grinding and polishing
- Model
SH-Q13-800
Description
氧化铝抛光布/抛光垫
产品用途：用于对LED半导体、砷化镓、氮化镓、滤光片、玻璃，蓝宝石，石英，硅片、金属材料等的精磨抛和粗中抛。
产品规格：可根据规格定做任意规格，可按照要求贴背胶或者不贴背胶。
此种抛光布抛光效果好，可适应各种材质的研磨和抛光，抛光后精度可达0.02，可至完美的镜面效果。各种抛光布，抛光垫，抛光皮的制作，经验丰富，质美价廉！
|
型号 |
厚度(mm) |
压缩比(%) |
密度(g/cm3) |
硬度（JIS-A） |
槽距（mm) |
应用工序 |
|
SH-Q13-600 |
1.3 |
5.5 |
0.39 |
82 |
15 |
粗中抛 |
|
SH-Q13-800 |
1.3 |
6.7 |
0.39 |
88 |
15 |
粗中抛 |
Characters
Properties
- Material
Polyamide fiber
- Brand
CMPPAD
- Scope of application
Gallium nitride chip grinding and polishing
- Model
SH-Q13-800
Description
氧化铝抛光布/抛光垫
产品用途：用于对LED半导体、砷化镓、氮化镓、滤光片、玻璃，蓝宝石，石英，硅片、金属材料等的精磨抛和粗中抛。
产品规格：可根据规格定做任意规格，可按照要求贴背胶或者不贴背胶。
此种抛光布抛光效果好，可适应各种材质的研磨和抛光，抛光后精度可达0.02，可至完美的镜面效果。各种抛光布，抛光垫，抛光皮的制作，经验丰富，质美价廉！
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型号 |
厚度(mm) |
压缩比(%) |
密度(g/cm3) |
硬度（JIS-A） |
槽距（mm) |
应用工序 |
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SH-Q13-600 |
1.3 |
5.5 |
0.39 |
82 |
15 |
粗中抛 |
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SH-Q13-800 |
1.3 |
6.7 |
0.39 |
88 |
15 |
粗中抛 |