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Оборудование для нанесения покрытий на пленку ARAF кремнезем гальванические машины
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О товаре
Характеристики
- Происхождение
Китай
- номер товара
ARAF
- бренд
для полного вакуума
- Область применения
Аппаратные средства
электронные продукты
- Модель
ARAF
- Псевдоним продукта
Вакуумная ионно-покрытийная машина
- Номер заказа
ZCZK2018
Описание
本店所有商品不是含税价，开票另加税点，详细咨询客服！
ZVC系列-真空蒸发磁控溅射复合镀膜设备
概述：真空蒸发磁控溅射复合形镀膜设备利用磁控溅射阴极辉光放电将原子（靶材）离化沉积在基材上（物理气相沉积PVD）和真空中利用电阻加热法将金属丝熔融或金属分子汽化，对基材、手机壳等塑料表面进行金属化、利用特定薄膜涂层实现产品不导电和电磁屏蔽的作用，以满足现行手机的高端电子产品制造行业标准；
特点：设备集中了等离子体处理，高端阴极磁控溅射、电阻蒸发镀膜装置，大装载量转架和自动化控制技术，工作可靠、重复性一致性良好、沉积速率快，附着力好，膜层品质细腻等，镀制的薄膜致密硬度高，摩擦系数低，可保持原有工件表面光洁度，具有韧性好，不易破裂脱落。设备实现镀膜工艺全自动化控制。在基材表面利用真空镀膜方法进涂层，具有生产成本低、产品合格率高、绿色环保等特点；可镀制复合金属膜、合金膜、透明（半透明）膜、不导电膜、电磁屏蔽膜及特殊膜层等。
用途：家电电器、钟表、工艺美术品、玩具、车灯反光罩、手机按键外壳以及仪器仪表等表面装饰性镀膜及工模具的功能涂层。
ZVC系列-真空蒸发磁控溅射复合型镀膜设备型号及技术参数
|
性能 型号 |
ZC-1000 |
ZC-1200 |
ZC-1400 |
ZC-1600 |
ZC-1800 |
|
镀膜室尺寸 |
￠1000×1200mm |
￠1200×1400mm |
￠1400×1600mm |
￠1600×1800mm |
￠1800×2000mm |
|
制膜种类 |
复合金属膜、合金膜、透明（半透明）膜、不导电膜、电磁屏蔽膜及特殊膜层等 |
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|
真空结构 |
立式双开门、立式单开门、后置抽气系统/卧式单开门、侧置抽气系统 |
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|
电源 |
电阻蒸发电源、离子轰击电源、直流磁控电源、射频电源 |
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|
镀膜室材质 |
优质不锈钢 |
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|
真空 |
4.0×10-4PA |
||||
|
抽速 |
从大气抽至10-3PA≤15 |
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|
工艺气体控制 |
质量流量计+电磁陶瓷阀 |
||||
|
真空机组系统 |
扩散泵或分子泵+罗茨泵+机械泵+维持泵 |
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|
溅射及电极结构 |
矩形磁控靶、圆柱磁控靶、孪生磁控靶、蒸发电极 |
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|
工件转架 |
行星式公自转、变频调速 |
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|
控制方式 |
手动/自动一体化方式、触摸屏操作+PLC控制 |
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|
测量方式 |
数显复合真空计，测量范围从大气至1.0×10-5PA |
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|
备注 |
以上设备可按客户实际及特殊工艺要求设计订做 |
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Характеристики
Свойства
- Происхождение
Китай
- номер товара
ARAF
- бренд
для полного вакуума
- Область применения
Аппаратные средства
электронные продукты
Описание
本店所有商品不是含税价，开票另加税点，详细咨询客服！
ZVC系列-真空蒸发磁控溅射复合镀膜设备
概述：真空蒸发磁控溅射复合形镀膜设备利用磁控溅射阴极辉光放电将原子（靶材）离化沉积在基材上（物理气相沉积PVD）和真空中利用电阻加热法将金属丝熔融或金属分子汽化，对基材、手机壳等塑料表面进行金属化、利用特定薄膜涂层实现产品不导电和电磁屏蔽的作用，以满足现行手机的高端电子产品制造行业标准；
特点：设备集中了等离子体处理，高端阴极磁控溅射、电阻蒸发镀膜装置，大装载量转架和自动化控制技术，工作可靠、重复性一致性良好、沉积速率快，附着力好，膜层品质细腻等，镀制的薄膜致密硬度高，摩擦系数低，可保持原有工件表面光洁度，具有韧性好，不易破裂脱落。设备实现镀膜工艺全自动化控制。在基材表面利用真空镀膜方法进涂层，具有生产成本低、产品合格率高、绿色环保等特点；可镀制复合金属膜、合金膜、透明（半透明）膜、不导电膜、电磁屏蔽膜及特殊膜层等。
用途：家电电器、钟表、工艺美术品、玩具、车灯反光罩、手机按键外壳以及仪器仪表等表面装饰性镀膜及工模具的功能涂层。
ZVC系列-真空蒸发磁控溅射复合型镀膜设备型号及技术参数
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性能 型号 |
ZC-1000 |
ZC-1200 |
ZC-1400 |
ZC-1600 |
ZC-1800 |
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镀膜室尺寸 |
￠1000×1200mm |
￠1200×1400mm |
￠1400×1600mm |
￠1600×1800mm |
￠1800×2000mm |
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制膜种类 |
复合金属膜、合金膜、透明（半透明）膜、不导电膜、电磁屏蔽膜及特殊膜层等 |
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真空结构 |
立式双开门、立式单开门、后置抽气系统/卧式单开门、侧置抽气系统 |
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电源 |
电阻蒸发电源、离子轰击电源、直流磁控电源、射频电源 |
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镀膜室材质 |
优质不锈钢 |
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真空 |
4.0×10-4PA |
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抽速 |
从大气抽至10-3PA≤15 |
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工艺气体控制 |
质量流量计+电磁陶瓷阀 |
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真空机组系统 |
扩散泵或分子泵+罗茨泵+机械泵+维持泵 |
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溅射及电极结构 |
矩形磁控靶、圆柱磁控靶、孪生磁控靶、蒸发电极 |
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工件转架 |
行星式公自转、变频调速 |
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控制方式 |
手动/自动一体化方式、触摸屏操作+PLC控制 |
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测量方式 |
数显复合真空计，测量范围从大气至1.0×10-5PA |
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备注 |
以上设备可按客户实际及特殊工艺要求设计订做 |
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